CLS-5000準分子激光器




主要特性:


  • 非常高的光束位置穩定性
  • 非常高的光束指向穩定性
  • 高重複率
  • 磁開關發生器
  • 小型準分子激光器
  • 內置能源顯示器
  • 能源穩定
氟化氩 氟化氪 氙氯
波長 193 納米 248 納米 308 納米
最大重複率 500 赫茲
最大脈衝能量 15 兆焦 25 兆焦 12 兆焦
脈衝能量的穩定性 西格瑪< 2%
光束尺寸(容積×高) 1 6 毫米 x 3,5 毫米 6 毫米 x 4 毫米 6 毫米 x 4 毫米
光束發散度(容積x高) 1 2 毫弧度 x 1 毫弧度
脈衝持續時間 1 11奈秒 12奈秒 12奈秒

應用範圍:


  • 光譜
  • 製造衍射結構的光纖
  • 材料處理
  • 微打標
  • 深紫外光光刻技术
CLS-5000是一個小型的193納米準分子激光器。它也有248納米和308納米波長等的不同配置。由於其有定位和指向等額外的功能使它具有非常好的光束穩定性,這使得CLS-5000在應對許多不同的應用程序的時候表現出色。 這種短波長激光器具有高重複率,這對於使用光掩模材料燒蝕工藝光學投影光刻是非常重要的。磁開關發生器和內置能源顯示器使Optromix CLS-5000非常方便使用者。
CLS-5000準分子激光器, 193 納米, 額定脈衝能量 15 兆焦, 最大重複率 500 赫茲 詳細特性 詢問報價
CLS-5000準分子激光器, 248 納米, 額定脈衝能量 25 兆焦, 最大重複率 500 赫茲 詳細特性 詢問報價
CLS-5000準分子激光器, 308 納米, 額定脈衝能量 12 兆焦, 最大重複率 500 赫茲 詳細特性 詢問報價

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